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发帖数: 153 | 1 中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备
中科院光电所超分辨光刻装备项目副总设计师杨勇（左）介绍研制成功的装备整机
。 孙自法 摄
中新网成都11月29日电 (记者 孙自法)由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科
研装备——超分辨光刻装备项目29日在成都通过验收，作为项目重要成果之一，中国科
学家已研制成功世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备，并
形成一条全新的纳米光学光刻工艺路线，具有完全自主知识产权。
中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家罗先刚研究员介绍说，2012年，该
所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务，经过近7年艰苦攻关，
在无国外成熟经验可借鉴的情况下，项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳
米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，完成国际上
首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高
线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)。在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备
项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了10纳米以下特征尺寸图形的加
工。
这一世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备是基于表面等离子体超衍射研制而成，
它打破了传统光学光刻分辨力受限于光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局，形成了
一条全新的超衍射纳米光刻从原理、装备到工艺的技术路线，具有完全自主知识产权，
为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了
制造工具。
验收专家认为，中科光电所研制成功的超分辨光刻装备所有技术指标均达到或优于实施
方案规定的考核指标要求，关键技术指标达到超分辨成像光刻领域的国际领先水平。该
项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路
线，绕过了国外高分辨光刻装备技术知识产权壁垒，实现中国技术源头创新，研制出拥
有自主知识产权、技术自主可控的超分辨光刻装备，也是世界上首台分辨力最高紫外超
分辨光刻装备。
同时，利用研制成功的超分辨光刻装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜
镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等
，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。
中科光电所超分辨光刻装备项目已发表论文68篇，目前已获授权国家发明专利47项，授
权国际专利4项，并培养出一支超分辨光刻技术和装备研发团队。罗先刚表示，中科院
光电所后续将进一步加大超分辨光刻装备的功能多样化研发和推广应用力度，推动国家
相关领域发展。(完) |
t******0
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t******e
发帖数: 2504 | 3 NM, 又来了，上次好像是华中科大什么9nm, 早就说过，这些院啊校啊搞的东西， 不值
一提，如果只看他们的所谓“成果”，还以为中国半导体水平早就是世界第1了。
这一套，在国内时也见识过，找一些同学亲朋好友，热热闹闹地开个所谓鉴定会，吃吃
喝喝， 下个所谓领先成果的鉴定结论，走时带个红包。 |
x******h
发帖数: 13678 | 4
华中科大那个9nm就是个噱头,根本不能实用，这个是介于duv和euv之间的一个白菜化工
业产品，至于以后的7nm和5nm芯片刻录技术还早得很
“ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下
使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只
。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很
多用户大喜过望。”
光电所走高分辨、大面积的技术路线，掌握了超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级
定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心专利，技术完全自主可
控，在超分辨成像光刻领域国际领先。
【在 t******e 的大作中提到】
: NM, 又来了，上次好像是华中科大什么9nm, 早就说过，这些院啊校啊搞的东西， 不值
: 一提，如果只看他们的所谓“成果”，还以为中国半导体水平早就是世界第1了。
: 这一套，在国内时也见识过，找一些同学亲朋好友，热热闹闹地开个所谓鉴定会，吃吃
: 喝喝， 下个所谓领先成果的鉴定结论，走时带个红包。
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G****1
发帖数: 8414 | |
t******e
发帖数: 2504 | 6 问题就在这，谁知道是噱头， 还是真货？
技术鉴别能力，本来是一是一2是2的事，但在中土这个环境下， 都成个捣糨糊，以我
过去在国内的工作经验，没有通不过的鉴定，而且个个是领先水平，最起码是个国内领
先，至于国际领先的牛皮也不少，至于真实水平，只有天知道！
【在 x******h 的大作中提到】
:
: 华中科大那个9nm就是个噱头,根本不能实用，这个是介于duv和euv之间的一个白菜化工
: 业产品，至于以后的7nm和5nm芯片刻录技术还早得很
: “ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下
: 使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只
: 。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很
: 多用户大喜过望。”
: 光电所走高分辨、大面积的技术路线，掌握了超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级
: 定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心专利，技术完全自主可
: 控，在超分辨成像光刻领域国际领先。
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t******0
发帖数: 153 | 7 老将的狗嘴里真是吐不出象牙来，
和那个前美国国防部长说中国2020年之前也搞不出五代战机来，是一路货色。 |
